上海辰仪测量技术有限公司
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真空计在半导体工艺中的应用刻蚀机需多规联合监控:电容规测腔体压力(1~10⁻²Pa),电离规监控等离子体区(10⁻²~10⁻⁵Pa)。ALD设备要求真空计耐腐蚀(如Al₂O₃镀膜用氟化钇涂层电离规)。数据采样率需>10Hz以
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真空计用于测量真空系统中的压力,使用方法如下:1.选择合适类型根据测量需求选择合适的真空计类型,常见的有:热偶真空计:适用于低真空(1Pa-1000Pa)。电离真空计:适用于高真空(10^-3Pa-10^-8Pa)。皮拉尼真空计:
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真空计相关知识真空计的通信接口现代真空计标配RS485/Modbus协议,**型号支持EtherCAT(延迟<1μs)。数字输出可减少模拟信号噪声,如电离规的离子电流低至10⁻¹²A。物联网型真空计集成自诊断功能(如INFI
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2.热传导真空计热传导真空计通过气体热传导的变化来测量压力,适用于低真空和中真空范围。(1)皮拉尼真空计原理:利用加热丝的热量损失与气体压力之间的关系测量压力。测量范围:10⁻³Torr到10Torr。优点:响应快、成本低。缺点:
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微压差真空计(差压规)测量两个腔室压差,量程1~10⁻⁴Pa,精度±0.1%。应用包括检漏仪(氦质谱仪参考端压力监控)和分子泵前级压力控制。硅谐振式传感器(如横河EJA系列)温度稳定性达±0.1%FS/年。20.真空计的未来发展趋
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金属薄膜真空计性能特点高灵敏度:金属薄膜真空计通常具有较高的灵敏度,能够准确测量微小的压力变化。宽测量范围:虽然具体范围取决于金属薄膜的材质和厚度,但金属薄膜真空计通常具有较宽的测量范围,适用于从低真空到高真空的不同环境。稳定性好
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